（1）化學(xué)干擾

化學(xué)干擾是原子吸收光譜分析中經(jīng)常遇到的。產(chǎn)生化學(xué)干擾的主要原因是被測元素形成穩(wěn)定或難熔的化合物不能完全離解出來所致。它又分為陽離子干擾和陰離子干擾。在陽離子干擾中，有很大一部分是屬于被測元素與干擾離子形成的難熔混晶體，易與被測元素形成不易揮發(fā)的混合氧化物，使吸收降低。

消除方法：

①選擇合適原子化方法。提高原子化溫度，可使難解離的化合物分解；采用還原性強的火焰與石墨爐原子化法，可使難解離的氧化物還原、分解。

②加入釋放劑，與干擾元素生成更穩(wěn)定化合物使待測元素釋放出來。如磷酸鹽干擾Ca，加入La或Sr時，可釋放出Ca。

③加入保護劑，使待測元素不與干擾元素形成難揮發(fā)化合物，使待測元素被保護起來。保護劑大多是配合劑。

④加入基體改進劑。石墨爐原子化法，在試樣中加入基體改進劑，使其在干燥或灰化階段與試樣發(fā)生化學(xué)變化，其結(jié)果可能增加基體的揮發(fā)性或改變被測元素的揮發(fā)性，以消除干擾。

⑤化學(xué)分離法。當(dāng)以上方法都不能消除化學(xué)干擾時，只好采用化學(xué)方法將待測元素與干擾元素分離。常用的化學(xué)分離方法有溶劑萃取、離子交換和沉淀分離等。

（2）物理干擾

當(dāng)溶液的物理性質(zhì)(粘度、表面張力等)發(fā)生變化時，吸入溶液的速度和霧化率也發(fā)生變化因而影響吸收的強度。為了克服物理干擾采用稀釋試液或在標(biāo)準(zhǔn)溶液中加入與試液相同基體的辦法或采用標(biāo)準(zhǔn)加入法。

（3）電離干擾

當(dāng)火焰溫度足夠高時，中性原子失去電子而變成帶正電的離子，使火焰中的中性原子數(shù)目逐漸減小，導(dǎo)致測定靈敏度降低，工作曲線向吸光度坐標(biāo)方向彎曲。這種現(xiàn)象存在于堿金屬和堿土金屬等電離勢較低的元素。為了消除電離干擾一方面適當(dāng)控制火焰的溫度(采用富燃火焰)，另一方面在標(biāo)準(zhǔn)溶液和樣品溶波中加入大量容易電離的元素，如鉀、鈉、銣、銫，以抑制被測元素的電離。

（4）光譜干擾

它是由于光源、樣品或儀器使某些不需要的輻射光被檢測器測量所引起的。它能使靈敏度降低，工作曲線彎曲，也會引起測定結(jié)果偏高等。一般采用較窄的光譜通帶、提高光源的發(fā)射強度、選擇其他的分析線，預(yù)先分離干擾物等方法去消除。

（5）背景干擾

這里所指的背景干擾主要是背景吸收。它包括光散射、分子吸收和火焰吸收?？刹捎绵徑俏站€或鄰近低靈敏度的吸收線(與分析線相差在10nm內(nèi))連續(xù)光源(如氘燈、碘鎢燈)塞曼效應(yīng)和自吸等方式進行校正?；鹧嫖湛捎谜{(diào)零的方法迸行校正。